事件總覽：臺灣半導體檢測產業近日掀起專利戰火，汎銓科技單方面指控光焱科技侵犯其「光損偵測裝置」專利並求償鉅額，而光焱則以技術世代差異與市場壟斷疑慮，強硬回擊此波攻勢。
📅 近期事件：汎銓發動專利攻勢
汎銓科技（6830）近日透過公開資訊觀測站及記者會，高調宣稱光焱科技（7728）侵害其編號I870008B的「光損偵測裝置」發明專利，並提出高達新臺幣兩億元的賠償要求。這項舉動立即在業界引發關注，顯示半導體檢測領域的競爭已趨白熱化，特別是在日益重要的**矽光子檢測**技術方面。
📅 即時回應：光焱全面駁斥侵權指控
面對汎銓的指控，光焱科技迅速發布官方聲明，強調截至目前為止，公司並未收到任何來自法院的相關訴訟函件。光焱嚴正譴責同業在尚未經過完整司法程序前，即透過媒體發布資訊的行為，認為這不僅阻礙了產業創新，更是一種不公平的競爭手段。他們對於此類競爭策略深感遺憾，並予以嚴正譴責。
📅 技術核心爭議：金相顯微鏡 vs. 高光譜成像
光焱科技指出，雙方在檢測技術的世代上存在顯著落差，這正是這場專利爭議的核心。汎銓所主張的專利，其核心技術是採用傳統的「金相顯微鏡」方案進行光損量測；然而，光焱科技則基於次世代、更為先進的「高光譜成像技術感測模組」作為其核心技術。這項創新技術可高度整合於客戶端的系統，例如探針台或電測機，直接進行高效的**矽光子光學檢測**，而「光損檢測」僅是光焱在多功能模組中的其中一項應用。光焱直言：「拿之前的金相顯微鏡專利，來告自家新世代的高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳的。」這段話直接點出了技術差異，也是光焱駁斥侵權指控的關鍵論點。
📅 專利有效性之辯：舉發案背後的真實意涵
汎銓在記者會上曾高調宣稱其專利歷經十七項舉發仍維持有效，但光焱對此提出反擊。根據光焱檢視公開資料，該專利舉發案之所以不成立，主要原因在於當時的舉發人提出了更先進的檢測技術與零組件作為證據，但主管機關卻認定這些新技術與汎銓所採用的傳統金相顯微鏡技術「無關」。光焱認為，這恰恰證明汎銓的專利僅保障其自身的舊有技術，進一步明確證實光焱採用的高光譜成像系統與汎銓的技術截然不同，因此毫無侵權疑慮，這也間接說明了技術演進對專利判讀的影響。
📅 市場壟斷疑慮：「光損檢測」詞彙之爭
光焱科技進一步強調，專利所保障的是特定的技術實施手段，而非將「光損檢測」這個詞彙註冊為商標來試圖買斷整個市場。光焱認為，不能因為汎銓針對其自有技術申請了專利，就無限上綱地認定市場上所有具備「光損檢測」功能的設備都侵害其權益。這不僅涉及技術範疇的界定，更關乎產業競爭的公平性，以及**產業創新**的自由發展空間。
至今影響與未來展望
深耕光學與光電子晶片檢測領域長達十六年的光焱科技，面對此次同業的不實指控與行銷操作，展現了其穩健的營運態度。光焱強調，截至目前為止，公司的營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆未受此事件影響。未來，光焱將積極配合司法程序進行答辯，以堅定捍衛公司、客戶及全體股東的合法權益，確保**矽光子檢測**技術的創新發展不受無謂干擾，持續為半導體產業貢獻新世代的檢測解決方案。
