汎銓科技（6830）於 2026 年 3 月 25 日正式向智慧財產及商業法院提起訴訟，指控光焱科技（7728）涉嫌侵犯其所擁有的中華民國第 I870008B 號「光損偵測裝置」發明專利。汎銓科技訴請法院判令光焱科技立即停止所有侵權行為，並請求新台幣 2 億元的損害賠償，此舉旨在維護其在半導體高階檢測領域的智慧財產權與競爭優勢。
事實陳述與汎銓立場
根據汎銓科技董事長柳紀綸於 2026 年 3 月 25 日的聲明，公司發現光焱科技在「光損偵測裝置」相關設備及技術方案上，涉及侵害汎銓的專利權。因此，汎銓已採取法律行動，正式向智慧財產及商業法院提出告訴。柳紀綸強調，台灣科技產業在全球享有「護國群山」的盛名，而汎銓科技更是專攻半導體核心的高階先進製程材料檢測分析，以及 AI 暨矽光子檢測等具備全球領導能力的業務，其營運版圖涵蓋美國、台灣、日本等全球重要的半導體與 AI 領先市場。
柳紀綸進一步指出，為避免光焱科技持續侵害汎銓的智慧財產權，甚至可能因違法行為未受重視，進一步引發技術及重要機密外洩等更重大的疑慮，汎銓科技在考量台灣整體科技產業的價值與重要性，以及維護公司全體利害關係人權益的立場下，基於其長期投入研發所產生的競爭優勢，決定訴請法院判令相關被告公司及有關人等立即停止所有侵害專利權的行為，並請求損害賠償新台幣 2 億元。
專利背景與技術實力
汎銓科技所主張的「光損偵測裝置」技術，是其自主研發的重要成果。這項技術不僅已成功取得台灣及日本的發明專利，近期更進一步正式取得美國的發明專利，顯示其在全球範圍內的技術領先性與保護力。柳紀綸表示，汎銓目前已組裝三台矽光子量測分析設備，證明該技術已具備實際應用能力。此專利訴訟案，再次凸顯了半導體產業中，智慧財產權保護對於企業維持市場競爭力與技術領先地位的關鍵作用。
後續觀察
此宗涉及「光損偵測裝置」專利的侵權訴訟，其後續發展將持續受到半導體業界的高度關注。智慧財產及商業法院將對汎銓科技提出的各項證據與主張進行審理，同時也將評估光焱科技的相關答辯內容。此案的結果不僅將影響兩家公司的商業利益與市場佈局，更可能對台灣科技產業的智慧財產權保護意識與實踐產生重要的示範效應，促使各界更加重視核心技術的研發與專利佈局。
