AI晶片研發分析平台汎銓科技（6830）於2026年3月25日上午，正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟，指控光焱科技股份有限公司（7728）侵害其所擁有之中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利。汎銓除要求光焱停止相關侵權行為外，更依法請求新台幣2億元的損害賠償，此案已全面進入司法程序，預計將由法院依據具體事證進行審理。
訴訟核心：光損偵測裝置專利爭議
這起專利侵權訴訟的核心，聚焦於汎銓科技獨家研發的「光損偵測裝置」發明專利。汎銓強調，這項技術是公司長期投入大量研發資源所累積的成果，不僅已在全球取得台灣、日本及美國等多國發明專利，更實際應用於矽光子元件的光損量測與定位分析。在當前高速光通訊、AI人工智慧及光電整合等前瞻應用領域中，此裝置具備高度的技術價值與產業重要性。
面對光焱科技於2026年3月26日對外發布的相關聲明，汎銓基於尊重司法程序的原則，選擇不就個別技術爭議或光焱單方面的說法進行逐一回應。汎銓認為，關於雙方技術差異、是否構成專利侵權，以及相關專利權利範圍的認定，均屬專業法律與技術判斷範疇，應全權交由智慧財產及商業法院依據具體事證進行公正審理。
汎銓捍衛智慧財產權的堅定立場
汎銓科技此次提起訴訟，不僅是為了維護自身的自主研發成果與智慧財產權之正當權益，更展現了對台灣整體科技產業價值與重要性的高度重視。公司強調，此舉亦是對全體股東與利害關係人負責的必要行動，旨在樹立台灣科技產業對於專利與營業秘密保護的最高標準。
汎銓科技表示：「本公司提起本次訴訟，係基於維護自主研發成果與智慧財產權之正當權益，亦是對台灣整體科技產業之價值與重要性，以及全體股東與利害關係人負責之必要行動。」
公司一向將技術創新與智慧財產保護視為發展基石，並致力於建立健全的產業競爭環境。透過此次合法途徑，汎銓期望能確保其技術成果不受不當侵害，藉此捍衛台灣科技業在創新研發上的努力與決心。
產業影響與技術前瞻
汎銓科技長期深耕於半導體先進製程材料分析、AI晶片分析平台及矽光子檢測技術等關鍵領域，其技術實力備受業界肯定。此次專利訴訟，凸顯了在高速發展的科技產業中，智慧財產權保護的重要性與挑戰。特別是「光損偵測裝置」這項專利技術，其應用範圍廣泛且具備策略性意義：
- 矽光子元件分析： 提供精準的光損量測與定位分析，是元件效能優化的關鍵。
- 高速光通訊： 在數據傳輸量日益增長的趨勢下，確保光訊號完整性不可或缺。
- AI晶片應用： 支援AI晶片在光學互連與高速運算中的性能表現。
- 光電整合技術： 促進不同光電元件間的協同運作與系統整合效率。
這項訴訟結果，不僅將影響汎銓與光焱兩家公司的未來發展，也將為台灣半導體及光電產業在智慧財產權保護上，樹立一個重要的里程碑。汎銓重申，相關爭議已正式進入司法程序，後續將尊重法院的審理結果，並依法保障公司及全體股東的合法權益。
