AI晶片研發分析平台業者汎銓科技，於2026年3月25日上午正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟，指控光焱科技股份有限公司侵害其所擁有的「光損偵測裝置」發明專利，並請求新台幣2億元之損害賠償。此舉顯示汎銓捍衛智慧財產權的堅決立場，使兩家科技公司的侵權爭議迅速升溫，並已正式進入司法程序。
專利侵權訴訟始末與核心爭議
這起專利侵權訴訟在光焱科技於2026年3月26日下午發布反擊聲明後，情勢更顯激烈。汎銓科技隨後於同日晚間也提出說明，並展示相關訴訟狀，以表明其維護權益的決心。根據汎銓的聲明，其已正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟，主張光焱科技侵害其所擁有的中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並依法要求停止侵權行為及新台幣2億元的損害賠償。此案已由法院受理，相關事實與法律爭點將由司法機關進行審理並作出最終判斷。
汎銓在聲明中強調，公司長期投入大量研發資源，深耕於半導體先進製程材料分析、AI晶片分析平台及矽光子檢測技術領域，累積了眾多核心技術。「光損偵測裝置」不僅是汎銓的重要關鍵技術之一，更已取得台灣、日本及美國的發明專利。這項技術目前實際應用於矽光子元件的光損量測與定位分析，對於高速光通訊、AI及光電整合等前瞻應用領域，具備高度的技術價值與產業重要性。
汎銓捍衛核心技術與產業價值
面對光焱科技所發布的相關聲明，汎銓表示基於尊重司法程序原則，不就個別技術爭議或對方單方面說法進行逐一回應。公司認為，關於雙方技術差異、是否構成專利侵權，以及相關專利權利範圍的認定，均屬專業法律與技術判斷範疇，應回歸智慧財產及商業法院依據具體事證進行審理。汎銓呼籲相關當事人應以誠實態度面對司法程序，共同尋求公正的裁決。
汎銓科技指出：「本公司提起本次訴訟，係基於維護自主研發成果與智慧財產權之正當權益，亦是對台灣整體科技產業之價值與重要性，以及全體股東與利害關係人負責之必要行動。」
汎銓重申，公司一向重視技術創新與智慧財產保護，並致力於建立健全的產業競爭環境。透過合法途徑確保技術成果不受不當侵害，旨在樹立台灣科技產業對於專利與營業秘密上採取最高標準捍衛的決心與努力。這不僅是為了保障公司自身的權益，更是對整個產業創新氛圍的維護。
展望與影響
此類專利侵權訴訟在高速發展的科技產業中並非罕見，尤其在AI晶片與矽光子等前瞻技術領域，智慧財產權的界定與保護更顯關鍵。汎銓與光焱的訴訟案，不僅將考驗台灣智慧財產及商業法院的專業判斷能力，也將對相關產業的專利布局與競爭生態產生深遠影響。隨著案件正式進入司法程序，最終的判決結果將成為業界關注的焦點，並可能為未來科技創新與專利保護樹立新的標竿。汎銓已明確表示，後續將尊重法院審理結果，並依法保障公司及全體股東的合法權益。
