一句話總結：光焱科技針對汎銓科技提出的2億元專利侵權訴訟強硬反擊，強調其核心「高光譜成像技術」與汎銓舊世代「金相顯微鏡」專利存在顯著技術差異，並指控對方試圖以法律手段干擾市場。
核心要點
- 汎銓科技於25日宣布，對光焱科技提出新台幣2億元的專利侵權訴訟，指控其侵害第 I870008B 號「光損偵測裝置」發明專利。
- 光焱科技隨後在26日發布聲明反擊，發言人廖清霖指出公司尚未收到任何法院訴訟函件，並嚴正譴責同業透過媒體發布「資訊煙霧彈」的不正當競爭行為。
- 光焱強調，其核心產品皆為自主研發16年的成果，並未且無須使用其他公司技術，堅信自身營運、業務及設備出貨皆正常進行，財務業務不受影響。
- 關鍵爭議在於技術世代差異：汎銓專利基於傳統「金相顯微鏡」的光損量測，而光焱採用的是次世代「高光譜成像技術感測模組」，可高度整合於客戶系統進行矽光子光學檢測。
- 光焱直言，以舊世代金相顯微鏡專利控告新世代高光譜影像感測模組，在技術上「完全站不住腳」。
- 針對汎銓專利曾挺過17項舉發，光焱解釋該專利舉發不成立，反證其僅保障舊世代技術，與光焱的高光譜系統截然不同，故無侵權疑慮。
- 光焱進一步闡明，專利保障的是特定「技術實施手段」，而非壟斷「光損檢測」一詞，並以國際大廠蔡司（Zeiss）也進入光損檢測為例，反駁汎銓說法在產業技術與法律邏輯上皆有失偏頗。
一句話結論
總體而言，光焱科技對於汎銓的專利侵權指控採取堅決否認的立場，強調雙方技術核心存在本質上的世代差異，並將積極透過司法程序捍衛公司權益，同時呼籲產業回歸良性競爭。
