事件總覽：汎銓科技近日正式向智慧財產及商業法院提告，指控同業光焱科技侵害其關鍵的「光損偵測裝置」發明專利，並請求新台幣 2 億元的損害賠償，此舉不僅宣示汎銓捍衛其全球領先技術的決心，也反映台灣半導體產業對智慧財產權的重視。
📅 2025年6月：專利護城河首遇挑戰
話說回來，汎銓的這項「光損偵測裝置」技術，其實早在 2025 年 6 月就曾面臨過考驗。當時，另一家同業向專利局提出多達 17 項舉證，企圖撤銷汎銓所擁有的中華民國第 1870008 號發明專利。這無疑是一場對其核心技術合法性的嚴峻挑戰。
📅 2025年11月：專利有效性獲官方認證
經過專利局的嚴謹審查與判定，最終在 2025 年 11 月確認汎銓的專利依然有效存在。汎銓董事長柳紀倫就曾指出，這證明了公司的專利護城河「非常強壯」，不僅穩固了其在矽光子檢測領域的技術優勢，也為後續的市場拓展奠定堅實基礎。
📅 近日（25日）：汎銓正式提告，求償兩億
正因為擁有堅實的專利基礎，汎銓科技近日（25 日）便不再容忍侵權行為。他們發現同業光焱科技涉及侵犯其「光損偵測裝置」專利相關的設備及技術方案，因此正式向智慧財產及商業法院提起訴訟。汎銓主張，光焱科技侵害了其擁有的中華民國第 1870008 號「光損偵測裝置」發明專利，並請求高達新台幣 2 億元的損害賠償。此舉背後，是汎銓對長期研發投入的價值肯定，以及維護公司全體利害關係人權益的決心。
汎銓強調，台灣科技產業素有「護國群山」美譽，而汎銓更是專攻半導體高階先進製程材料檢測分析與 AI 暨矽光子檢測等具全球領導能力的業務。其業務與營運範圍遍及美國、台灣、日本等全球重要半導體與 AI 市場。因此，當全球領先的關鍵技術專利受到侵權時，公司不得不採取法律途徑，以避免台灣最重要的科技技術面臨肆意損害甚至外流的疑慮，進而衝擊台灣在國際上的立足根本。柳紀倫董事長也堅定表示，未來無論是引進日本或美國的設備，只要侵犯其核心專利，不論對方公司規模多大皆會採取法律行動提告到底，以堅定捍衛公司的智慧財產權。
「光損偵測裝置」技術：矽光子領域的關鍵「入海口」
這項引發專利訴訟的「光損偵測裝置」技術，其實是汎銓自主研發的結晶，不僅已成功取得台灣及日本發明專利，近日更進一步正式取得美國發明專利。這項技術之所以關鍵，在於它能精準量測並定位矽光子元件在光傳輸過程中的損耗位置。對於矽光子晶片、光電整合模組及高速光通訊元件的研發驗證與量產測試而言，這項技術具有不可或缺的價值。
汎銓憑藉其獨家的光損定位技術，成功卡位成為整個矽光子故障分析（FA）的「入海口」。換句話說，若無法找到光損位置，便無法進行後續分析，這使得汎銓在分析端的市佔率高達 90% 以上，幾乎呈現寡占狀態。目前，汎銓廠內建置的三台檢測設備，已分別為其大客戶以及美國最大的 AI 公司服務長達六年與兩年，技術成熟度與客戶認同度可見一斑。
至今影響與未來展望
隨著 AI 資料中心與高速運算對矽光子技術需求快速提升，矽光子技術被視為下一世代高頻寬、低功耗資料傳輸的重要核心技術之一。汎銓不僅持續提供研發端的矽光子量測與光損定位分析服務，更同步擴展營運模式，製造銷售量產端（PD）及品質驗證（QA）所需的矽光子測試設備「MSS HG」。
展望未來，汎銓不僅固守研發端的分析服務，更積極計畫進軍設備銷售市場。預計於 2026 年底舉辦機台發表會，並於年底至 2027 年間正式推出量產端適用的設備。為符合商用標準，新機台正進行外觀與機構的升級，包含採用黑色鋼琴烤漆外殼、優化內部理線以利後續維護，並將導入自製的可升降載台，以滿足 12 片矽光子晶片自動測量與 CPO 降階的不同測試需求。汎銓這次的專利提告，不僅是為了保護自身權益，更是向全球半導體產業宣示其捍衛技術創新的堅定立場。
